參考文獻 |
參考文獻
【1】 張俊彥著,積體電路製成及設備技術手冊,中華民國經濟部技術處(1996)。
【2】 Benefield, L. D., J. F. Judkins, and B. L. Weand, Process chemistry for water & wastewater treatment, Prentice Hall(1982).
【3】 Manahan, S. E., Environmental Chemistry, Lewis(1996).
【4】 楊萬發譯,水及廢水處理化學,茂昌圖書有限公司(1987)。
【5】 Gouy, C., “Suy la Constitution de la Charge Electrique ala Surface Dum Electrolyte,” Annals of Physics, (Pairs)Serie4, 9, pp. 457-468(1910).
【6】 Chapman, D. L., “A Contribution to the Theory of Electrocapillarity,” Philosophical Magazing, 25, pp. 475-481(1910).
【7】 Stern, O., “Zur Theorie der, Elektrolytischem Doppelschicht,” Acta Electrochemistry, 30, pp. 508 (1924).
【8】 蔡騰龍著,工業水處理,正文書局有限公司(2001)。
【9】 王敏智,不同粒徑膠體粒子的膠凝沈降實驗,碩士論文,東海大學化學工程研究所,台中(2002)。
【10】 Derjaguin, B. V. and L. D. Landau, Acta Physicochimca URSS, 14, pp. 633-662 (1941).
【11】 Verwey, E. J. W. and J. Th. G. Overbeek, Theory of the Stability of Lyophobic Colloids, Elsevier, Amsterdam, Amsterdam (1948).
【12】 Ninham, B. W., “On progress in forces since the DLVO theory,” Advances in Colloid and Interface Science, 83, pp. 1-17(1999).
【13】 Zhang, X. and R. H. Davis, “The rate of collisions due to Brownian or gravitational motion of small drops,” Journal of Fluid Mechanics, 230, pp. 479–504 (1991).
【14】 Yiacoumi, S., D. Rountree, and C. Tsouris, “Mechanism of Particle Flocculation by Magnetic Seeding,”Journal of Colloid Interface Science, 184, pp. 477-488(1996).
【15】 Chin, C. J., S. Yiacoumi, and C. Tsouris, “Shear-Induced Flocculation of Colloidal Particles in Stirred Tanks,”Journal of colloid and interface science, 206, pp. 532-545(1998).
【16】 Young, W. D. and D. C. Prieve, “Initial Rate of Flocculation of Magnetic Dispersion in an Applied Magnetic Field,”Industrial and Engineering Chemistry Research, 35, pp. 3186-3194(1996).
【17】 工業污染防治技術服務團等著,半導體製造業污染防治技術,經濟部工業局編印(1995)。
【18】 劉訓瑜,化學機械研磨廢水混凝沈澱效能之評估,碩士論文, 交通大學環境工程研究所,新竹(2000)。
【19】 張閔然,竹科污水中奈米微粒之特性與污水污泥之脫水性,碩士論文,台灣大學化學工程研究所,台北(2003)。
【20】 Li, S. H. and R. O. Miller, “Chemical mechanical polishing in Semiconductor processing,” Academic Press(2000).
【21】 Chena, C. C., L. S. Shua, and S. R. Lee, “Mechano-chemical polishing of silicon wafers,” Journal of Materials Processing Technology, 140, pp. 373–378(2003).
【22】 張俊彥、鄭晃忠著,積體電路製程及設備技術手冊,產業科技發展協會(1998)。
【23】 Liu, C. W., B. T. Dai, and C. F. Yeh, “Post cleaning of chemical mechanical polishing process,”Applied Surface Science, 92, pp. 176-179(1996).
【24】 Tardif, F., I. Constant, O. Demolliens, M. Fayolle, Y. Gobil, J. Palleau, and J. Torres, “Cleaning after silicon oxide CMP,”Microelectronic Engineering, 37-38, pp. 285-291(1997).
【25】 王建榮、林必窕、林慶福編譯,土肥俊郎原著,半導體平坦化 CMP技術,全華科技圖書股份有限公司(2000)。
【26】 Li, S. H. and R. O. Miller, “Chemical mechanical polishing in silicon processing,” Academic Press(2000).
【27】 楊宗儒,半導體化學機械研磨廢水之處理與回收,碩士論文, 元智大學化學工程研究所,中壢(2001)。
【28】 詹耀富,以柱槽溶氣浮選法回收二氧化矽奈米微粒之研究,碩士論文,成功大學資源工程研究所,台南(2000)。
【29】 連介宇,半導體工廠化學機械研磨廢水以浮除程序處理之研究,碩士論文,台灣科技大學化學工程研究所,台北(2001)。
【30】 黃信仁,半導體工廠化學機械研磨廢水之處理研究,碩士論文,台灣科技大學化學工程研究所,台北(2002)。
【31】 蔡秀惠,利用外加電場掃流微過濾程序處理化學機械研磨廢水之研究,碩士論文,中山大學環境工程研究所,高雄(2001)。
【32】 邱顯盛,以電化學法處理化學機械研磨水,碩士論文,交通大學環境工程研究所,新竹(2002)。
【33】 范文彬,利用電聚浮除法處理半導體業CMP廢水之研究,碩士論文,淡江大學水資源及環境工程研究所,台北(2001)。
【34】 Lai, C. L. and S. H. Lin, “Treatment of Chemical mechanical polishing wastewater by electrocoagulation:system performances and sludge settling characteristics,”Chemosphere, 54, pp. 235–242(2004).
【35】 Lai, C. L. and S. H. Lin, “Electrocoagulation of chemical mechanical polishing (CMP) wastewater from semiconductor fabricaton,”Chemical Engineering Journal, 95, pp. 205–211(2003).
【36】 鄧宗禹著,化學機械研磨廢液之化學性質與影響電解凝聚法處理效率之研究,工程科技通訊,66,pp. 168-173(2003)。
【37】 Zumdahl, S. S., Chemistry, 3nd Ed, D. C. Heath and Company(1993).
【38】 戴智禮著,磁性材料,台灣商務印書館(1970)。
【39】 陳永平著,電磁學,全華科技圖書股份有限公司(2003)。
【40】 下飯阪達, “粉體の液相中における凝集分散,”粉體および粉末冶金, 12, pp. 263-274(1966).
【41】 Khalafalla S. E. and G. W. Reimers, “Preparation of Dilution Stable Aqueous Magnetic Fluid,” IEEE Transactions on Magnetics, 16, pp. 178-183(1980).
【42】 Skjeltorp, A. T., “Condensation and ordering of colloidal spheres dispersed in a ferrofluid,”Physica A, 213, pp. 30-40(1995).
【43】 陳澄佑,磁性流體的研製,碩士論文,清華大學材料科學與工程研究所,新竹(1993)。
【44】 都有為、鍾偉著,磁性液體性質及應用,南京大學物理系。網址:http://www.jk-nano.com/services/wzhong.htm
【45】 黃忠良著,磁性流體理論應用,復漢出版社(1988)。
【46】 Cho Y. S., G. S. Choi, S. Y. Hong, and D. kim, “Carbon nanotube synthesis using a magnetic fluid via thermal chemical vapor deposition,” Journal of Crystal Growth, 243, pp. 224-229(2002).
【47】 Shen, L., P. E. Laibinis, and T. A. Hatton, “Bilayer Surfactant Stabilized Magnetic Fluids:Synthesis and Interactions at Interfaces,”Langmuir, 15, pp. 447-453(1999).
【48】 徐光宏,磁性流變流體之製程研究,碩士論文,成功大學機械工程研究所,台南(2002)。
【49】 Ebner, A. D., J. A. Ritter, and H. J. Ploehn, “Magnetic Hetero-flocculation of Paramagnetic Colloidal Particles,”Journal of Colloid and Interface Science, 225, pp. 39-46(2000).
【50】 Feng, D., C. Aldrich, and H. Tan, “Removal of Heavy Metal Ions by Carrier Magnetic Separation of Adsorptive Particulates,”Hydrometallurgy, 56, pp. 359-368(2000).
【51】 Sakai, Y., T. Miama, and F. Takahashi, “Simultaneous Removal of Organic and Nitrogen Compounds in Intermittently Aerated Activated Sludge Process Using Magnetic Separation,”Water Research, 31, pp. 2113-2116(1997).
【52】 Chun, C. L. and J. W. Park, “Oil Spill Remediation Using Magnetic Separation,” Journal of Environmental Engineering, 127, pp. 443-449(2001).
【53】 Ebner, A. D., J. A. Ritter, and H. J. Ploehn, “New Magnetic Field-Enhanced Process for the Treatment of Aqueous Wastes,” Separation Science and Technology, 34, pp. 1277-1300(1999).
【54】 Deng, Y., L. Wang, W. Yang, S. Fu, and A. Elaïssari, “Preparation of magnetic polymeric via inverse microemulsion polymerization process,”Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 257, pp. 69-78(2003).
【55】 Leun, D. and A. Sengupta, “Preparation and Characterization of Magnetically Active Polymeric Particles (MAPPs)for Complex Environmental Separations,”Environmental Science & Technology, 34, pp. 3276-3282(2000).
【56】 Koneracká, M., P. Kopčanský, M. Antalík, M. Timko, C. N. Ramchand, D. Lobb, R. V. Mehta, and R. V. Upadhyay, “Immobilization of proteins and enzymes to fine magnetic particles,”Journal of Magnetism and Magnetic Materials, 201, pp. 427-430(1999).
【57】 Wangnerud, P. and G. Olofesson, “Adsorption Isotherms for Cationic Surfactants on Silica Determined by in Situ Ellipsometry,” Journal of Colloid and Interface Science, 153, pp. 392-398(1992).
【58】 Sun, Z. X., F. W. Su, W. Forsling, and P. O. Samskog, “Surface Characteristics of Magnetite in Aqueous Suspension,”Journal of Colloid and Interface Science, 197, pp. 151-159(1998).
【59】 行政院環保署環境檢驗所,水中濁度檢測方法-濁度計法(NIEA W219.51C)。
【60】 歐陽嶠暉著,廢水處理廠操作管理,經濟部工業局編印(1993)。 |