以乾蝕刻製作微透鏡陣列之技術與量測

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姓名

陳仁祿(Ren-Lu Chen) 查詢紙本館藏

畢業系所

光電科學與工程學系

論文名稱

以乾蝕刻製作微透鏡陣列之技術與量測
(Fabrication and Measurement of microlens with dry etching)

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摘要(中)

本論文是在矽基板上用乾蝕刻方式製作微透鏡陣列的模具，形狀為平凹球面，亦可當凹面鏡使用。利用SF6/C4F8混合氣體電漿，調整蝕刻氣體流量、蝕刻時間、上下電極瓦數會造成微模具曲率半徑的改變。
主要利用乾蝕刻的isotropic etching，所以製作出的樣品的底切現象仍相當嚴重，且蝕刻面的可用範圍有限。在一系列的微透鏡樣品中，其中有個樣品利用干涉儀所量測之相位差小於一個波長，其光學性質經量測及計算後，微透鏡的有效直徑(clear aperture)約為130μm，焦距是116μm，其所對應的N.A為0.56。

摘要(英)

Using ICP dry etch technology to fabricate concave lens on silicon wafer. Try to make spherical or aspherical microlens having different radius of curvature. We use a Twymann-Green interferometer to measure the surface profile.

關鍵字(中)

★ 微透鏡

關鍵字(英)

★ microlens

論文目次

目錄
論文摘要……………………………………………………………Ⅰ
致謝…..……………………………………………………………Ⅱ
目錄…………………………………………………………………Ⅲ
圖表索引……………………………………………………………Ⅴ
第一章緒論……………………………………………………….1
1-0 歷史回顧………………………………………………….1
1-1 研究動機…………………………………………………6
第二章微透鏡基本原理………………………………………….9
第三章感應耦合電漿蝕刻機…………………………………….12
3-0 前言………………………………………………………12
3-1 STS Multiplex ICP系統…………………………………12
3-2 乾蝕刻技術簡介…………………………………………14
3-3 電漿蝕刻基礎……………………………………………16
第四章微透鏡陣列模具之製造與ICP技術…………………….20
4-0 前言……………………………………………………….20
4-1 化學及物理式蝕刻的控制………………………………20
第五章微模具之檢測與討論…………………………………….28
5-0 前言……………………………………………………….28
5-1 光學顯微鏡………………………………………………28
5-2 描式電子顯微鏡…………………………………………28
5-3 Dektak表面輪廓儀………………………………………34
5-4 光學干涉儀……………………………………………….42
第六章實驗結果的分析與討論…………………………………..48
6-0 前言………………………………………………………48
6-1 光學規格………………………………………………….49
6-2 蝕刻機制討論…………………………………………….50
6-3 討論與結果……………………………………………….53
第七章結論與未來………………………………………………..56
7-1 結論……………………………………………………….56
7-2 未來……………………………………………………….58
參考文獻………………………………………………………….60

參考文獻

參考文獻
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指導教授

張正陽(Jenq-Yang Chang)

審核日期

2003-7-17

推文