中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/2510
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    题名: 熱化學氣相沉積法製備橫向奈米碳管之研究;Properties of lateral carbon nanotube grown by thermal CVD
    作者: 何萬青;Wan-Ching Ho
    贡献者: 機械工程研究所
    关键词: 接觸電阻;拉曼散射光譜;熱化學氣相沉積法;奈米碳管;contact resistance;Raman Spectroscopy;Thermal CVD;carbon nanotube
    日期: 2005-06-17
    上传时间: 2009-09-21 11:48:56 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 摘要 實驗利用常壓熱化學氣相沉積(Thermal Chemical Vapor Deposition, Thermal CVD)成長橫向奈米碳管。配合I-line 微影技術,及金屬層蝕刻定義元件形狀。利用單因子實驗,設定不同操作參數,如製程溫度、乙烯在碳源中比例、甲烷流量、製程時間、不同載流氣體種類等,而得到數量、形貌、品質優良橫向奈米碳管,並結合微影 定義合成元件結構。並利用拉曼散射光譜(Raman Spectroscopy)分析,判定奈米碳管石墨化程度好壞。橫向奈米碳管元件利用I-V 電性量測分析,探討元件電性穩定性。並透過公式推算,計算元件電阻。由於元件成長橫向奈米碳管之催化劑為鎳金屬層,亦藉由本實驗設計結構,計算鎳金屬層和橫向奈米碳管之接觸電阻問題。 奈米碳管之物理特性廣受各界的期待,但由於成長定位方式,及製程相容之不成熟,故奈米碳管之應用產品仍在實驗階段。本次實驗成功利用不同製程參數,控制橫向奈米碳管的成長數量及品質。利用兼容IC 製程,配合微影定義元件形狀,傳統成長奈米碳管技術成長橫向奈米碳管。也由設計的元件結構合成橫向奈米碳管橋建元件,整 合元件之品質與穩定,對未來奈米碳管之定位與應用盡一分心力。
    显示于类别:[機械工程研究所] 博碩士論文

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