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    Title: 分子束磊晶成長光電元件;Molecular Beam Epitaxial Growth of Optoelectronic Devices
    Authors: 綦振瀛
    Contributors: 電機工程學系
    Keywords: 光電工程
    Date: 1994-01-01
    Issue Date: 2010-05-28 10:26:29 (UTC+8)
    Publisher: 行政院國家科學委員會
    Abstract: 砷化銦鋁鎵之能隙涵蓋0.76eV到1.46eV(在與InP晶 格匹配的狀況下).若是考慮應變結構則變化範圍 更大.這項特點使其成為一多才多藝的材料,並且 成為一未來高性能光電元件的重要選擇.然而目 前為止,這項材料的相關研究並不眾多.本計畫的 主要目標即是利用本校新購置的分子束磊晶系統 來發展高品質InAlGaAs磊晶.我們將利用各種不同的 方法來分析所成長的材料,包括霍爾效應,X光繞射 ,光激光,電容-壓分析,光電壓,紅外線光譜,及橢圓 儀.所以磊晶層的電氣,結構及光學特性均將作完 整的研究.最後,我們將製作InAlGaAs/AlGaAs單量子井 雷射並予以詳細分析.研究期間:8202 ~ 8301
    Relation: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    Appears in Collections:[電機工程學系] 研究計畫

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