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    題名: 磁流體旋塗不穩定之研究
    作者: 張昌霖;Chang-Lin Chang
    貢獻者: 機械工程研究所
    關鍵詞: 旋轉塗佈;不穩定
    日期: 2005-07-11
    上傳時間: 2009-09-21 11:50:32 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 摘 要 半導體製程中,對於矽晶圓表層覆膜大多採用旋轉塗佈的方式進行,液體在旋轉塗佈的過程,因為離心力的作用,使得不穩定手指狀流會在連續薄膜波前處產生,如何針對不穩定手指狀流的產生機制加以控制更是目前的重點。 本實驗採用磁性流體作為實驗流體,觀察磁性流體與矽油兩者在旋轉塗佈製程上的差異性,實驗結果發現磁性流體如矽油一般,臨界半徑會隨 Boω 增加而呈現先遞減後增加的趨勢。但是,針對磁性流體而言,這種開口向上拋的曲線之反曲點卻有提前發生的現象;而兩實驗流體隨著Boω > 50 之後逐漸地有匯集的現象。此外,針對磁性流體外加磁場的實驗中發現,磁性流體液膜之臨界半徑特徵長度隨磁場增加而有減少的趨勢。而不穩定手指狀流的數目則隨磁場增加而有增加的現象。
    顯示於類別:[機械工程研究所] 博碩士論文

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