磁流體旋塗不穩定之研究

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題名:	磁流體旋塗不穩定之研究
作者:	張昌霖;Chang-Lin Chang
貢獻者:	機械工程研究所
關鍵詞:	旋轉塗佈;不穩定
日期:	2005-07-11
上傳時間:	2009-09-21 11:50:32 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	摘要半導體製程中，對於矽晶圓表層覆膜大多採用旋轉塗佈的方式進行，液體在旋轉塗佈的過程，因為離心力的作用，使得不穩定手指狀流會在連續薄膜波前處產生，如何針對不穩定手指狀流的產生機制加以控制更是目前的重點。本實驗採用磁性流體作為實驗流體，觀察磁性流體與矽油兩者在旋轉塗佈製程上的差異性，實驗結果發現磁性流體如矽油一般，臨界半徑會隨 Boω 增加而呈現先遞減後增加的趨勢。但是，針對磁性流體而言，這種開口向上拋的曲線之反曲點卻有提前發生的現象；而兩實驗流體隨著Boω > 50 之後逐漸地有匯集的現象。此外，針對磁性流體外加磁場的實驗中發現，磁性流體液膜之臨界半徑特徵長度隨磁場增加而有減少的趨勢。而不穩定手指狀流的數目則隨磁場增加而有增加的現象。
顯示於類別:	[機械工程研究所] 博碩士論文

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