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    題名: 頻率與電流密度對高純度鋁箔電蝕舉動之影響
    作者: 李岳聯;Yueh-Lien Lee
    貢獻者: 機械工程研究所
    關鍵詞: 交流電蝕;靜電容量;電容器;capacitance;capacitor;AC etching
    日期: 2005-06-17
    上傳時間: 2009-09-21 11:54:21 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本論文研究的目的將著重於電蝕過程中不同的電流密度及電蝕頻率對於電化學蝕刻後陽極鋁箔的腐蝕組織及靜電容量的影響,藉此精確掌握此二參數對電蝕工程所造成之變化。另外,本實驗透過電化學分析儀的輔助,可清楚瞭解在整個電蝕過程中電位、電流變化的情形,以及孔洞的生成與成長現象,提供更多學理上的瞭解與證明,以期能對整個鋁電解電容器之研究有顯著的助益。 試片經過不同電流密度及電蝕頻率的蝕刻後,先量測試片的重量損失率,隨後將試片依EIAJ規範進行化成處理,量測其靜電容量值。利用光學顯微鏡及掃描式電子顯微鏡來觀察鋁箔截面腐蝕深度及表面蝕孔分布的型態。藉由這些方法來比較在不同的電流密度及電蝕頻率條件下所造成的腐蝕組織對最後靜電容量的影響。 在電化學分析部份,藉由恆電位儀來觀察在不同的電流密度及電蝕頻率條件下電蝕過程中電位與電流變化的情形。藉由電位或是電流的變化,可判斷在各種條件下腐蝕反應進行情形。 由實驗結果得知:電蝕頻率越高,造成鋁的溶解量越少,形成的孔洞較小但數量較多,而靜電容量值與電蝕頻率並非呈現絕對相關的趨勢;電流密度越高,造成鋁溶解量越多,靜電容量值會有上升趨勢,此外電流密度越高,表面生成的蝕孔也會變多。
    顯示於類別:[機械工程研究所] 博碩士論文

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