Plasma-assisted process for removing NO/NOx from gas streams with C2H4 as additive

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題名:	Plasma-assisted process for removing NO/NOx from gas streams with C2H4 as additive
作者:	Lee,HM;Chang,MB;Yang,SC
貢獻者:	環境工程研究所
關鍵詞:	KINETIC DATA;BRANCHING RATIOS;DISCHARGE PLASMA;PRODUCT CHANNEL;NCO+NO REACTION;DIODE-LASER;NOX CONTROL;COMBUSTION;TEMPERATURE;CHEMISTRY
日期:	2003
上傳時間:	2010-07-06 16:13:07 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	NOx removal from gas streams via dielectric barrier discharges (DBDs) has been experimentally evaluated. This paper investigates the effect of injecting C2H4 as an additive with respect to the De-NOx chemistry and the effect of gas composition on NO/NOx r
關聯:	JOURNAL OF ENVIRONMENTAL ENGINEERING-ASCE
顯示於類別:	[環境工程研究所 ] 期刊論文

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