Effects of plasma power and plasma sheath on field emission properties of carbon nanotubes

NCU Institutional Repository > 工學院 > 機械工程研究所 > 期刊論文 > Item 987654321/30596

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/30596

題名:	Effects of plasma power and plasma sheath on field emission properties of carbon nanotubes
作者:	Ting,JH;Su,CY;Huang,FY;Hsu,CL;Samukawa,S
貢獻者:	機械工程研究所
關鍵詞:	CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION;GROWTH;EMITTERS;FILMS
日期:	2006
上傳時間:	2010-07-06 16:23:00 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	With a nickel catalyst, carbon nanotubes (CNTs) were prepared by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition (MPCVD). Transmission electron microscopy (TEM) images reveal the center hollowness and multiwall structure of CNTs. The tip-growth mechan
關聯:	JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS
顯示於類別:	[機械工程研究所] 期刊論文

文件中的檔案:

檔案	描述	大小	格式	瀏覽次數
index.html		0Kb	HTML	335	檢視/開啟

在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

社群 sharing