Synthetic study and material applications for a positive photo resist of the acrylic series

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題名:	Synthetic study and material applications for a positive photo resist of the acrylic series
作者:	Cheng,TS;Wu,MH;Weng,WS;Chen,H
貢獻者:	化學工程與材料工程研究所
日期:	2002
上傳時間:	2010-07-06 16:29:24 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	For deep ultraviolet (DUV) light, a low-absorption acrylic copolymer was developed and could be able to substitute Novolak resin for DNQ/Novolak photo resist (PR) material. The acrylic copolymer was synthesized by using methacrylic acid (MAA), 2-hydroxyet
關聯:	MATERIALS LETTERS
顯示於類別:	[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文

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