中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/31038
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    题名: The effect of polymer modification on microwave digestion efficiency, thermal stability and plasma etching resistance for the photoresist
    作者: Ko,FH;Lu,JK;Chu,TC;Chou,CT;Hsiao,LT;Lin,HC
    贡献者: 化學工程與材料工程研究所
    关键词: BIOLOGICAL SAMPLES;MASS SPECTROMETRY;TRACE-METALS;IMPURITIES;CONTAMINATION;SYSTEM;IMPACT;IRON
    日期: 2000
    上传时间: 2010-07-06 16:33:30 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: The UV/VIS spectrometric and gravimetric methods were successfully implemented to evaluate the open-focused microwave digestion efficiency for a photoresist sample after modification with poly(4-hydroxystyrene) polymer. The polymer modification can slight
    關聯: JOURNAL OF ANALYTICAL ATOMIC SPECTROMETRY
    显示于类别:[化學工程與材料工程研究所] 期刊論文

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