Reduction of photoresist usage during spin coating

NCU Institutional Repository > 工學院 > 機械工程研究所 > 期刊論文 > Item 987654321/31128

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/31128

题名:	Reduction of photoresist usage during spin coating
作者:	Chou,FC;Wang,MW;Gong,SC;Yang,ZG
贡献者:	機械工程研究所
关键词:	NON-NEWTONIAN FLUIDS;ROUGH ROTATING-DISK;THIN LIQUID-FILM;FLOW;MODEL;SHEAR
日期:	2001
上传时间:	2010-07-06 16:36:47 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	To reduce the photoresist usage and understand the film spreading process, this study performs flow visualization experiments and numerical simulations. This paper is the first work to show that in the early stage of the spin coating process, the spreadin
關聯:	JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
显示于类别:	[機械工程研究所] 期刊論文

文件中的档案:

档案	描述	大小	格式	浏览次数
index.html		0Kb	HTML	883	检视/开启

在NCUIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

社群 sharing