Reduction of photoresist usage during spin coating

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题名:	Reduction of photoresist usage during spin coating
作者:	Chou,FC;Wang,MW;Gong,SC;Yang,ZG
贡献者:	機械工程研究所
关键词:	NON-NEWTONIAN FLUIDS;ROUGH ROTATING-DISK;THIN LIQUID-FILM;FLOW;MODEL;SHEAR
日期:	2001
上传时间:	2010-07-06 16:36:47 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	To reduce the photoresist usage and understand the film spreading process, this study performs flow visualization experiments and numerical simulations. This paper is the first work to show that in the early stage of the spin coating process, the spreadin
關聯:	JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS
显示于类别:	[機械工程研究所] 期刊論文

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