In situ scanning tunneling microscopy of underpotential deposition of lead on Cu(100) in sulfuric acid solutions

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題名:	In situ scanning tunneling microscopy of underpotential deposition of lead on Cu(100) in sulfuric acid solutions
作者:	Wu,HC;Yau,SL
貢獻者:	化學研究所
關鍵詞:	AUGER-ELECTRON-SPECTROSCOPY;ORDERED SURFACE ALLOY;EPITAXIAL-GROWTH;ATOMIC MECHANISMS;PB;CU(111);STM;ADSORPTION;SUPERSTRUCTURES;SUPERLATTICES
日期:	2001
上傳時間:	2010-07-07 12:11:25 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	In situ scanning tunneling microscopy (STM) has been used to examine underpotential deposition (UPD) of lead at Cu(100) electrode in 0.1 M sulfuric acid containing 1 mM Pb(ClO4)(2). Real-time STM imaging revealed high surface mobility of Cu(100) at 0.05 V
關聯:	JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B
顯示於類別:	[化學研究所] 期刊論文

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