中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/35421
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    题名: Fabry-Perot structures for attenuated phase-shifting mask application in ArF and F-2 lithography
    作者: Chen,HL;Wu,HS;Lee,CC;Ko,FH;Fan,W;Hsieh,CI
    贡献者: 光電科學與工程學系
    关键词: 157 NM;ULTRAVIOLET
    日期: 2003
    上传时间: 2010-07-07 14:14:13 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: We demonstrate a structure for an attenuated phase-shifting mask (APSM) which is based on a three-layer Fabry-Perot structure for ArF (193 nm) and F-2 (157 run) excimer laser based lithographies. The APSM structure is composed of a metal/dielectric/metal
    關聯: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
    显示于类别:[光電科學與工程學系] 期刊論文

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