Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F-2 excimer laser lithographies

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题名:	Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F-2 excimer laser lithographies
作者:	Chen,HL;Lee,CC;Chuang,YF;Liu,MC;Hsieh,CI;Ko,FH
贡献者:	光電科學與工程學系
关键词:	ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY;NM
日期:	2003
上传时间:	2010-07-07 14:14:16 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	We demonstrated an antireflective coating structure, which is based on a three-layer Fabry-Perot structure, for binary masks of ArF (193 nm) and F-2 (157 nm) excimer laser based lithographies. The antireflective coating structure is composed of a metal/di
關聯:	ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS
显示于类别:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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