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    题名: Fabry-Perot type antireflective coatings for binary mask applications in ArF and F-2 excimer laser lithographies
    作者: Chen,HL;Lee,CC;Chuang,YF;Liu,MC;Hsieh,CI;Ko,FH
    贡献者: 光電科學與工程學系
    关键词: ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY;NM
    日期: 2003
    上传时间: 2010-07-07 14:14:16 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: We demonstrated an antireflective coating structure, which is based on a three-layer Fabry-Perot structure, for binary masks of ArF (193 nm) and F-2 (157 nm) excimer laser based lithographies. The antireflective coating structure is composed of a metal/di
    關聯: ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS
    显示于类别:[光電科學與工程學系] 期刊論文

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