The characteristics of some metallic oxides prepared in high vacuum by ion beam sputtering

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题名:	The characteristics of some metallic oxides prepared in high vacuum by ion beam sputtering
作者:	Lee,CC;Hsu,JC;Wong,DH
贡献者:	光電科學與工程學系
关键词:	OPTICAL COATINGS;THIN-FILMS;DEPOSITION
日期:	2001
上传时间:	2010-07-07 14:34:53 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The characteristics of ion beam sputtered metallic oxides deposited in high vacuum are analyzed by X-ray diffractometer. atomic force microscopy, spectrophotometer and ellipsometer. The metallic oxide thin films include aluminum oxide, niobium oxide, sili
關聯:	APPLIED SURFACE SCIENCE
显示于类别:	[光電科學與工程學系] 期刊論文

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