English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 59813/59813 (100%)
造訪人次 : 15747949      線上人數 : 152
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35628


    題名: Growth of Al2O3 thin films on NiAl(100) by gas-phase oxidation and electro-oxidation
    作者: Zei,M. S.;Lin,C. S.;Wen,W. H.;Chiang,C. I.;Luo,M. F.
    貢獻者: 奈米科技研究中心
    關鍵詞: SINGLE-CRYSTAL SURFACES;OXIDE-FILMS;NIAL(001);ELECTRODEPOSITION;AL2O3/NIAL(100);RHEED;LEED
    日期: 2006
    上傳時間: 2010-07-07 15:45:52 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: The growth and structures of aluminum oxides on NiAl(100) have been investigated by RHEED (reflection high energy electron diffraction), complemented by LEED (low energy electron diffraction), AES (Auger electron spectroscopy) and STM (scanning tunneling
    關聯: SURFACE SCIENCE
    顯示於類別:[奈米科技研究中心 ] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML843檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright © National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋  - 隱私權政策聲明