Growth of Al2O3 thin films on NiAl(100) by gas-phase oxidation and electro-oxidation

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題名:	Growth of Al2O3 thin films on NiAl(100) by gas-phase oxidation and electro-oxidation
作者:	Zei,M. S.;Lin,C. S.;Wen,W. H.;Chiang,C. I.;Luo,M. F.
貢獻者:	奈米科技研究中心
關鍵詞:	SINGLE-CRYSTAL SURFACES;OXIDE-FILMS;NIAL(001);ELECTRODEPOSITION;AL2O3/NIAL(100);RHEED;LEED
日期:	2006
上傳時間:	2010-07-07 15:45:52 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The growth and structures of aluminum oxides on NiAl(100) have been investigated by RHEED (reflection high energy electron diffraction), complemented by LEED (low energy electron diffraction), AES (Auger electron spectroscopy) and STM (scanning tunneling
關聯:	SURFACE SCIENCE
顯示於類別:	[奈米科技研究中心 ] 期刊論文

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