English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 59813/59813 (100%)
造訪人次 : 15740048      線上人數 : 161
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35648


    題名: Annealing dependence of residual stress and optical properties of TiO2 thin film deposited by different deposition methods
    作者: Chen,Hsi-Chao;Lee,Kuan-Shiang;Lee,Cheng-Chung
    貢獻者: 薄膜技術研究中心
    關鍵詞: ION-ASSISTED DEPOSITION;COLUMNAR MICROSTRUCTURE;OXIDE FILMS
    日期: 2008
    上傳時間: 2010-07-07 15:47:00 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Titanium oxide (TiO2) thin films were prepared by different deposition methods. The methods were E-gun evaporation with ion-assisted deposition (IAD), radio-frequency (RF) ion-beam sputtering, and direct current (DC) magnetron sputtering. Residual stress
    關聯: APPLIED OPTICS
    顯示於類別:[薄膜技術研究中心] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML718檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright © National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋  - 隱私權政策聲明