English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 59813/59813 (100%)
造訪人次 : 15739996      線上人數 : 169
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35650


    題名: Developing new manufacturing methods for the improvement of AlF3 thin films
    作者: Lee,Cheng-Chung;Liao,Bo-Huei;Liu,Ming-Chung
    貢獻者: 薄膜技術研究中心
    關鍵詞: MICROSTRUCTURE-RELATED PROPERTIES;FLUORIDE FILMS;193 NM;OPTICAL COATINGS;ULTRAVIOLET;LITHOGRAPHY;EVAPORATION;PLASMAS;BOAT
    日期: 2008
    上傳時間: 2010-07-07 15:47:03 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: In this research, the plasma etching mechanism which is applied to deposit AlF3 thin films has been discussed in detail. Different ratios of O-2 gas were injected in the sputtering process and then the optical properties and microstructure of the thin fil
    關聯: OPTICS EXPRESS
    顯示於類別:[薄膜技術研究中心] 期刊論文

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbHTML816檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright © National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋  - 隱私權政策聲明