How the monitoring curve is affected by the thermal shift of a filter during deposition

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題名:	How the monitoring curve is affected by the thermal shift of a filter during deposition
作者:	Sheng-Hui Chen,Cheng-Chung Lee,Chien-Cheng Kuo
貢獻者:	薄膜技術研究中心
關鍵詞:	NARROW-BANDPASS-FILTERS;SYSTEMS
日期:	2006
上傳時間:	2010-07-07 15:47:35 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The thermal shift of dense-wavelength-division-multiplexing (DWTM) filters that is caused by nonconstant temperature during fabrication invokes a spectrum shift and an error in the optical thickness of the layer before the matching layer. The relation bet
關聯:	APPLIED OPTICS
顯示於類別:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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