Microstructure- and composition-related characteristics of LaF3 thin films at 193 nm

NCU Institutional Repository > 研究中心 > 薄膜技術研究中心 > 期刊論文 > Item 987654321/35676

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/35676

题名:	Microstructure- and composition-related characteristics of LaF3 thin films at 193 nm
作者:	Liu,Ming-Chung;Lee,Cheng-Chung;Kaneko,Masaaki;Nakahira,Kazuhide;Takano,Yuuichi
贡献者:	薄膜技術研究中心
关键词:	VACUUM ULTRAVIOLET;COATING MATERIALS;OPTICAL COATINGS;FLUORIDE FILMS;MGF2;EVAPORATION;DEPOSITION;BOAT
日期:	2006
上传时间:	2010-07-07 15:47:42 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	The characteristics of lanthanum fluoride (LaF3) thin films deposited with a resistive heating (RH) boat and by e-beam gun evaporation at different substrate temperatures have been studied. The characteristics of the deposited films, including optical pro
關聯:	OPTICAL ENGINEERING
显示于类别:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

文件中的档案:

档案	描述	大小	格式	浏览次数
index.html		0Kb	HTML	708	检视/开启

在NCUIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

社群 sharing