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    題名: Influence of thermal annealing and ultraviolet light irradiation on LaF3 thin films at 193 nm
    作者: Lee,CC;Liu,MC;Kaneko,M;Nakahira,K;Takano,Y
    貢獻者: 薄膜技術研究中心
    關鍵詞: MICROSTRUCTURAL PROPERTIES;VACUUM ULTRAVIOLET;FLUORIDE FILMS;COATINGS;LITHOGRAPHY
    日期: 2005
    上傳時間: 2010-07-07 15:47:52 (UTC+8)
    出版者: 中央大學
    摘要: Lanthanum fluoride.(LaF3) thin films were prepared by resistive heating evaporation and electron-beam gun evaporation under the same deposition rate, deposition substrate temperature, and vacuum pressure. The coated LaF3 films were then treated by heat an
    關聯: APPLIED OPTICS
    顯示於類別:[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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