Influence of thermal annealing and ultraviolet light irradiation on LaF3 thin films at 193 nm

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题名:	Influence of thermal annealing and ultraviolet light irradiation on LaF3 thin films at 193 nm
作者:	Lee,CC;Liu,MC;Kaneko,M;Nakahira,K;Takano,Y
贡献者:	薄膜技術研究中心
关键词:	MICROSTRUCTURAL PROPERTIES;VACUUM ULTRAVIOLET;FLUORIDE FILMS;COATINGS;LITHOGRAPHY
日期:	2005
上传时间:	2010-07-07 15:47:52 (UTC+8)
出版者:	中央大學
摘要:	Lanthanum fluoride.(LaF3) thin films were prepared by resistive heating evaporation and electron-beam gun evaporation under the same deposition rate, deposition substrate temperature, and vacuum pressure. The coated LaF3 films were then treated by heat an
關聯:	APPLIED OPTICS
显示于类别:	[薄膜技術研究中心] 期刊論文

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