利用矽氧烷化合物製備分子拓印高分子

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Title:	利用矽氧烷化合物製備分子拓印高分子
Authors:	許玉瑩;Yu-Ying Hsu
Contributors:	化學工程與材料工程研究所
Keywords:	溶膠凝膠法;分子拓印;sol-gel;MIP
Date:	2005-06-01
Issue Date:	2009-09-21 12:24:45 (UTC+8)
Publisher:	國立中央大學圖書館
Abstract:	摘要本研究利用溶膠-凝膠法以四甲氧基矽烷 (TMOS) 或與矽偶合劑為單體，製備出具有吸附及辨識咖啡因的分子拓印高分子材料，並探討不同製備條件即pH值、R值 (H2O/Si)、偶合劑的種類及添加量對分子拓印之影響。本研究所得分子拓印高分子材料可經由煅燒的方式將模版分子移除，而留下具有與拓印物質互補的辦識位置。分子拓印高分子的性質可利用高效能液相層析儀 (HPLC) 測量咖啡因鍵結量及選擇性 (α，咖啡因鍵結量與類似物茶鹼鍵結量之比值)，且可經由氮氣吸附孔隙儀 (ASAP) 得知，所製備之分子拓印高分子是否具多孔性質。本研究結果顯示，單獨利用 TMOS 所製備之分子拓印高分子具有狹窄的孔徑分佈，並具有高比表面積 (434.5 m2/g)，故可得到較高之咖啡鍵結量 (17 μmol/g)。而反應系統中藉由二官能基矽烷 (KBM-22) 或三官能基矽烷 (KBM-13) 的添加，可改變所得分子拓印高分子的比表面積與孔徑大小。隨著 KBM-13 添加比例的增加，可使咖啡因的鍵結量下降，但是提升分子拓印高分子的選擇性，最高可達7。而利用煅燒升溫梯度的改變，所得分子拓印高分子之性質也有所不同。在改變煅燒升溫梯度下所得的咖啡因鍵結量，以利用 KBM-13所製備的提升效果較佳，可提升2 ~ 3倍，且選擇性也有明顯提升，最高可達48。
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