分子拓印高分子之製備與其在石英晶體微量天平的應用; Preparation of Molecular Imprinting Polymer and Its Application on QCM

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題名:	分子拓印高分子之製備與其在石英晶體微量天平的應用;Preparation of Molecular Imprinting Polymer and Its Application on QCM
作者:	陳暉
貢獻者:	化學工程與材料工程系
關鍵詞:	分子拓印高分子;模版分子;總體聚合法;分散聚合法;溶膠凝膠法;高效能液相層析儀;石英微量天平;材料科技
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 15:06:50 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計畫擬利用具反應性單體與咖啡因模版分子形成非共價性鍵結，結合總體聚合法、分散聚合法以及溶膠凝膠法三種方法分別製備有機或無機之咖啡因拓印高分子。藉由萃取或鍛燒的方式將模版分子移除，遺留下具有鍵結辨識位置之微小孔洞，可再次有效地與咖啡因分子產生鍵結，若增加咖啡因拓印高分子的吸附量，可大大降低含咖啡因溶液中咖啡因的濃度，該材料可廣泛應用於食品或微量感測等領域。第一年先就三種聚合方法加以探討製備條件之影響，第二年則直接將分子拓印高分子利用在石英晶體微量天平上進行微量偵測。因此本研究計畫重點擬分兩年來加以進行: 第一年計畫重點在於利用總體聚合、分散聚合法與溶膠-凝膠法來製備咖啡因拓印高分子。利用總體聚合與分散聚合法製備分子拓印高分子，也就是所謂有機聚合法，在此法之製備條件探討官能性單體(MAA)、交聯劑(EGDMA)及模版分子的添加比例或分散劑的選擇(甲醇、乙醇、丙醇)與添加量等參數對所製備出之分子拓印高分子之咖啡因吸附量與選擇率之關係。另一法也就是無機法利用溶膠凝膠法來製備咖啡因拓印高分子，探討其無機氧烷單體(TEOS)在不同水含量、混合方式（precursor 或 in-situ）、酸鹼環境及造孔劑添加量等參數對拓印高分子的吸附量和選擇率的影響。第二年計畫重點在於利用上述分子拓印高分子製備條件之經驗，在QCM(石英晶體微量天平)晶片上形成一拓印高分子膜層，探討製備條件與調整旋轉塗佈機轉速來製備出在不同條件下之分子拓印高分子對石英晶體微量天平偵測之影響。並利用霍式轉換紅外光譜儀偵測紅外線光譜變化、高效能液相層析儀計算模版分子之吸附量或競爭吸附下之選擇率、石英微量天平偵測微少的模版分子變化量以及電子顯微鏡觀察其表面之微結構。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[化學工程與材料工程學系 ] 研究計畫

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