高縱向解析之共焦顯微鏡研發; Development of Confocal Microscope with High Longitudinal Resolution

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題名:	高縱向解析之共焦顯微鏡研發;Development of Confocal Microscope with High Longitudinal Resolution
作者:	李朱育
貢獻者:	光機電工程研究所
關鍵詞:	共焦顯微鏡(Confocal microscope);干涉術(Intereferomtry);差動技術(Differential technique);光電工程
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 15:10:49 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	薄膜厚度在半導體製程是非常重要的參數，尤其是薄膜厚度薄至奈米等級時，則需要更準確的厚度量測技術。光學顯微鏡是現代精密的量測儀器，且被廣泛使用在生物醫學，精密工業檢測，光電檢測等領域。傳統光學顯微鏡在先天上具有非破壞檢測的特性，也不必對待測樣本作特殊處理就可直接觀察的優勢；然而，由於光波的繞射極限，使傳統光學顯微鏡的橫向解析度僅達半波長的等級。新近急速發展的共焦顯微鏡（confocal microscope）利用針孔進行空間濾波，使影像解析度稍加優越於傳統光學顯微鏡，同時又具有縱向檢測的能力，因此被廣泛使用在半導體薄膜厚度檢測，或生物活體切面結構分析的研究上。共焦顯微鏡的縱向解析度主要決定於物鏡的數值孔徑。一般而言，縱向解析度大約是0.1 微米的等級。在全球半導體製程發展朝向奈米等級的趨勢中，這樣的解析度是不夠的。因此本研究計畫將以提升共焦顯微鏡的縱向解析度為目的。更詳細地說，本計畫是要在共焦顯微鏡的架構下，整合光學干涉技術；利用干涉效應以及差動技術，將縱向解析度提高到奈米的等級。最後完成試片表面三維量測與薄膜厚度量測技術的建立。研究期間：9310 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光機電工程研究所 ] 研究計畫

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