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    題名: 次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---總計畫;Processes and Equipment Development for Next Generation TFT-LCD
    作者: 周復初;董必正;傅群超;潘敏俊
    貢獻者: 機械工程學系
    關鍵詞: 旋轉塗佈;狹縫式塗佈;噴墨式塗佈;光電工程;化學工程類
    日期: 2005-07-01
    上傳時間: 2010-11-30 15:12:19 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 由於LCD 的需求日益增加,預期將為業界帶來復甦,可惜的是其中重要的關鍵性技術,竟被日、韓所把持,台灣人花大把的鈔票在購買專利、機台和技術轉移方面,卻僅能賺取微薄的代工費用,相當令人惋惜。因此製程突破與機台開發,已是刻不容緩之事。彩色濾光片,LCD 中最重要的組件,成本亦最高,一般製作均採旋轉塗佈,造成光阻大量浪費,而狹縫式塗佈,受限於塗佈視窗狹小與平坦度的缺點,另外噴墨塗佈則有定位、衛星液滴、耗時等問題,各有利弊。本計畫在將學術面建立狹縫式與噴墨式塗佈視窗,機台部分,改進塗佈液儲存與輸送裝置及主動式避震器,系統控制面,將控制壓電材料的作動,實際應用面,開發噴墨頭模組。最後,創新製程,以實驗為基礎,搭配硬體的設計與控制系統的整合來達到。不單提升國人技術,更要超越日、韓,開發出次世代的TFT-LCD 光阻塗佈機。 研究期間:9308 ~ 9407
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[機械工程學系] 研究計畫

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