鋁電解電容器用高純度鋁箔直流電蝕舉動之模型分析; Modeling of the D.C. Etching Behavior on the Aluminum Foils Used for Electrolytic Capacitor

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題名:	鋁電解電容器用高純度鋁箔直流電蝕舉動之模型分析;Modeling of the D.C. Etching Behavior on the Aluminum Foils Used for Electrolytic Capacitor
作者:	歐炳隆
貢獻者:	機械工程學系
關鍵詞:	高純度鋁箔;電解蝕刻;電化學舉動;靜電容量;材料科技
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 15:13:02 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	本計劃主要目的為研究鋁電解電容器用高純度鋁箔在直流電蝕後，以科學方法及數學理論建構表面積增加之試算模式與電蝕數學模型。其中，對鋁箔實際電蝕後之微結構加以觀察，並利用影像分析軟體對於電蝕箔的pit 表面、tunnel 截面進行個數分析、密度分析、型態分析等細節研究，再輔以電化學量測，瞭解電蝕時電位、電流與時間所扮演的角色，在獲得充足的各方面資訊與數值後，架構出合乎理論基礎又利於工業應用之電蝕模型、表面積試算模式，並藉由實驗室之基礎研究達到培育人才的目的。在研究方法方面，首先選以數種高純度鋁原箔作為研究對象，經由電解蝕刻製成後，按照EIAJ 的規範對電蝕鋁箔（etched foils）做化成處理（forming），並分別量測其靜電容量、重量損失率、引張折曲強度。再利用光學顯微鏡(OM)與掃瞄式電子顯微鏡(SEM)將電蝕過之試片作截面、表面、皮膜複製觀察以分析腐蝕孔洞的分佈與形成舉動，並以影像分析軟體對微結構圖像進行研究，探索tunnel 長短、大小、密度及分佈等對於表面積擴大率和靜電容量之影響。最後利用恆電位儀觀察在不同電蝕參數下，電位-時間與電位-腐蝕電流關係圖。藉由電位、電流、時間的變化推測電解蝕刻（etching）反應進行時的舉動，配合影像分析所得的各種數據建構電蝕模型與表面積試算模式。目前國內外之研究當中，對於鋁箔隧道式腐蝕與表面積擴大之間的關係建立是付諸闕如。在隧道式腐蝕與表面積擴大之間，有著什麼樣奧妙的關係？在這當中又存在些什麼樣的參數可以研究與改良？什麼樣的隧道式腐蝕方式對表面積擴大具有最好的效果？這一連串的問號，是學理上電蝕機制建立欲解答之問題，亦是提升高壓電蝕鋁箔直流電蝕技術之關鍵。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[機械工程學系] 研究計畫

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