先進非熱電漿技術研發---氣態多污染物同時去除技術(I); Development of Innovative Nonthermal Plasma Technologies for Simultaneous Removal of Multi-pollutants from Gas Streams(I)

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題名:	先進非熱電漿技術研發---氣態多污染物同時去除技術(I);Development of Innovative Nonthermal Plasma Technologies for Simultaneous Removal of Multi-pollutants from Gas Streams(I)
作者:	張木彬
貢獻者:	環境工程研究所
關鍵詞:	非熱電漿;觸媒;電漿觸媒技術;溼式電漿技術;電漿診斷;電漿放射光譜分析;空氣污染物控制技術;多污染物併同處理技術;環保工程
日期:	2005-07-01
上傳時間:	2010-11-30 15:14:21 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	台灣地區地狹人稠，多污染物併同處理技術的開發具有(1)節省操作及設置成本及(2) 縮小設備所需空間之優點，相當契合台灣本土的需求。本所擬配合此國科會計畫採購半導體製程中常用的電漿診斷設備「放射光譜儀 (OES)」，以瞭解電漿放電過程的物理與化學過程，並提升研究層次。OES 可用於線上直接量測活性物種濃度，如O 原子及OH 自由基，這些活性物種濃度的確定，對電漿系統的控制、污染物去除、及電漿物理化學等方面之解析，有相當正面的幫助。本計畫分兩年進行，第一年著重在學理的探討，藉由OES 的量測及理論數值模擬，確實掌握自由基的表面物理化學作用，此一基礎性的研究將有助於電漿未來的相關研究與應用。第二年以技術開發為主，本計畫將以非熱電漿技術為主軸，發展兩套技術，即(1) SCR 觸媒電漿技術及(2)溼式電漿技術，個別研究他們同時處理多種污染的可行性。兩技術均屬新穎設計，具創新性及可行性(見內文)，相信經本計畫縝密細膩的研究後，應可研發成功，為解決21 世紀的空氣污染問題提供嶄新的控制技術與觀念。研究期間：9308 ~ 9407
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[環境工程研究所 ] 研究計畫

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