光學外差式面內位移量測技術研發; Development of In-Plane Displacements Measurement Based On Heterodyne Optics

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題名:	光學外差式面內位移量測技術研發;Development of In-Plane Displacements Measurement Based On Heterodyne Optics
作者:	李朱育
貢獻者:	光機電工程研究所
關鍵詞:	面內位移(in-plane displacement);外差干涉術(heterodyne interferometry);繞射光柵(diffraction grating);光電工程
日期:	2006-07-01
上傳時間:	2010-12-06 15:06:50 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	奈米檢測技術中，掃針式顯微鏡（SPM）需要有奈米級的量測或定位裝置來提供掃描過程中試片與探針相對位置的資訊。利用光干涉儀縱向解析度高的特性（縱向的定義是：待測物體位移方向與光線前進方向平行稱之），可以光束轉折的方式達到掃瞄平台橫向位移的量測量測。但對這樣的作法需要兩個正交的干涉儀才能達成，所以系統變的較為複雜。目前常見的精密平面定位或位移量測技術，是以光學尺為強而有力的工具。光學尺是利用光偵測器所接收到的光強度受到副尺及主尺交錯時產生的明暗變化的現象來作為面內位移量測的機制。另一種作法是利用同頻（homodyne）偵測技術去量測光柵繞射所引入的相位。就目前技術而言，在未經過電子訊號分割的情況下，其面內定位或位移量測的精確度約為次波長等級。由於現有面內位移量測技術多為同頻(homodyne)偵測模式，其量測解析度有限。另一方面，外差偵測模式的解析度則高出許多。因此本計畫的目的是開發一種以外差干涉術為基礎的面內位移量測技術。計畫目標是：第一年，完成外差干涉術的基礎建設，與二維面內位移量測技術。第二年，完成外差干涉術在面內位移量測上的誤差分析並與掃瞄平台整合。研究期間：9408 ~ 9507
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光機電工程研究所 ] 研究計畫

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