中大機構典藏-NCU Institutional Repository-提供博碩士論文、考古題、期刊論文、研究計畫等下載:Item 987654321/42744
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    题名: 次世代TFT-LCD光阻塗佈製程與設備之研發---子計畫一---TFT-LCD光阻與染料塗佈技術研究(II);The Study of Photo-Resistant and Dye Coating Technology in TFT-LCD(II)
    作者: 周復初
    贡献者: 機械工程學系
    关键词: 狹縫式塗佈;噴墨塗佈;液晶顯示器;光電工程;化學工程類
    日期: 2006-07-01
    上传时间: 2010-12-06 15:08:51 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 本計畫主要目的是TFT-LCD光阻與染料之新型塗佈技術研究。本實驗將狹縫式塗佈技術應用在光阻與染料之塗佈上,可預期的優點有塗佈速度快和塗佈面積大。然而在塗佈的過程中,塗佈層會有許多的缺陷發生,如空氣滲入(air entrainment)、溪狀(rivulet)、耙形線(rake line)等,本實驗利用此新式的狹縫式塗佈機台找出LCD於狹縫塗佈時之塗佈注入量、塗佈間距(coating gap)、狹縫間距(slot gap)、不同流體對完整覆膜的影響,並配合狹縫頭的設計,進而找出最佳注液模式,使光阻染料減量及塗佈的更加均勻。另外,開發彩色濾光片三原色新型塗佈技術也是本計畫重點。目前噴墨塗佈應用在彩色濾光片的技術皆屬非連續性之塗佈方式,亦即將三原色一次一次的依序噴入微米級矩陣圖形中,此種塗佈技術其最大缺點為噴墨定位困難、噴墨控制性不佳、塗佈速度慢等缺點,也是噴墨技術目前主要瓶頸。本計畫採用連續式噴墨技術,連續將三原色染料持續性的塗佈在基板上,此法不會有噴墨頭高精密定位、精密噴墨控制等問題發生,塗佈速度相對加快。噴墨塗佈中,衛星液滴和噴墨頭阻塞現象是噴墨頭很容易發生的現象,此現象和液滴物性、撞擊能量和液滴速度等因素有關,本計畫將找出產生的相關機制加以克服。 研究期間:9408 ~ 9507
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    显示于类别:[機械工程學系] 研究計畫

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