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    題名: 兩相紊流---重粒子與紊流雙向交互作用於高壓條件下之定量量測;Two-Phase Turbulent Flows---Measurements of Two-Way Interaction Between Solid Particles and Turbulence at Elevated Pressures
    作者: 施聖洋
    貢獻者: 機械工程學系
    關鍵詞: 兩相紊流;粒子下沉;等向性紊流場;高速PIV;小波分析;機械工程類
    日期: 2006-07-01
    上傳時間: 2010-12-06 15:10:09 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 在液體旋轉塗佈的過程中,因為離心力的作用,使得不穩定手指狀一定會在連續薄膜波前處產生,由於流體會先選擇經由突出的不穩定手指狀向外擴張,因而導致連續薄膜擴張速度減緩,甚至停滯不前。目前,旋轉塗佈已被廣泛運用在半導體工業薄膜製程上,如光阻液在晶圓表面的塗佈,但是不穩定手指狀的存在,使得液體在晶圓表面的最大塗佈面積受到限制。但隨著半導體工業的發展,晶圓尺寸也隨之不斷增大,傳統應用於小尺寸晶圓的旋轉塗佈方式,已無法將大尺寸晶圓完全塗滿,成為半導體製程上急需突破的瓶頸。本計畫針對旋轉塗佈過程中不穩定手指狀流,研發新式塗佈方法。藉由在晶圓轉盤內部配置超音波震盪器,藉此觀察經由超音波震盪影響連續薄膜波前發展現象,以達到抑制不穩定手指狀流的發生,進而達到最大塗佈臨界半徑以及光阻減量的效果。此外,更進一步的針對不穩定手指狀流的發展加以控制,以達到最佳化的效果。 研究期間:9408 ~ 9507
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[機械工程學系] 研究計畫

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