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    Title: 紫外光及深紫外光濾光片之研製---總計畫(I);Research of Optical Interference Filters in UV and DUV Ranges (I)
    Authors: 李正中;李建階;江政忠;任貽均
    Contributors: 光電科學研究所
    Keywords: 紫外光薄膜;深紫外光薄膜;干涉濾光片;離子助鍍;紫外光退火;應力;非均向性;微觀結構;奈米微影;光電工程
    Date: 2006-07-01
    Issue Date: 2010-12-06 16:15:44 (UTC+8)
    Publisher: 行政院國家科學委員會
    Abstract: 本研究計畫延續第一年的成果,繼續在理論、實驗與應用三方面作更深入的研究。理論研究之一,是在探討光在非均向性薄膜中傳遞時,穿透與反射光的強度與相位變化,已完成任意非均向性薄膜的光學計算,並且能很精確地偵測出非均向性薄膜的光學常數。基於上述結果,開始設計與製鍍鋸齒狀奈米結構薄膜 (Zigzag thin film),加強整體膜堆的非均向光學特性,繼續研究各種多樣化的奈米結構薄膜並搭配微影製程所得之奈米結構特性來設計濾光片。另一理論研究是對於強紫外光輻射對薄膜破壞的機制,目前已經完成紫外光在薄膜中電場的分佈,利用不同的薄膜設計來改變場的分佈,將可以使得濾光片避免或承受更高的輻射損害,如此在微影技術(Lithography)、準分子雷射 (Excimer laser) 及二倍頻及多倍頻雷射中才更具有實用價值。在實驗部分,於第一年的研究裡已完成氧化物和氟化物薄膜不同製程與特性分析,包括了微觀結構、非均向性、光學成效與機械特性等的研究。接下來將利用離子助鍍(IAD)、離子束濺鍍(IBSD)製鍍成光學薄膜,利用掃瞄式及穿透式顯微鏡(SEM 與TEM)觀測其微觀結構,再利用表面電漿激發儀、橢圓偏光儀以及干涉相移式應力量測儀量測其宏觀的光學與機械行為,包括非均向光學特性及應力,來找尋最佳的製鍍條件,以獲得優良特性的光學薄膜,依據上述之理論與實驗,將設計、製作奈米結構與多層濾光片。另一方面將在多層膜上以電子束微影技術製作奈米結構,利用其所展現之雙折射性提升各種濾光片的光學成效 (optical performance),目前利用此項技術,已經完成了低應力氮化矽薄膜製成奈米結構光柵的研究。在應用方面則利用上述之經驗製鍍紫外光及深紫外光的光學系統所需之各種濾光片,如抗反射膜、高反射鏡、偏振分光鏡、帶通濾光片及相位片等。 研究期間:9408 ~ 9507
    Relation: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 研究計畫

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