研究奈晶矽與非晶矽之多層結構經熱退火處理後之性質及其在PIN太陽能電池吸收層中之應用; Thermal Annealing Treatments on Nanocrystalline and Amorphous Silicon Multilayers and its Applications on the Absorber of PIN Solar Cells

NCU Institutional Repository > 工學院 > 材料科學與工程研究所 > 博碩士論文 > Item 987654321/43459

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/43459

题名:	研究奈晶矽與非晶矽之多層結構經熱退火處理後之性質及其在PIN太陽能電池吸收層中之應用;Thermal Annealing Treatments on Nanocrystalline and Amorphous Silicon Multilayers and its Applications on the Absorber of PIN Solar Cells
作者:	謝志堅;Chih-chien Hsieh
贡献者:	材料科學與工程研究所
关键词:	晶粒尺寸;結晶率;氫化微晶矽薄膜;微結構比例;氫含量;氫化非晶矽薄膜;電漿增強型化學氣相沈積系統;microstructure fraction;hydrogen content;grain size;crystalline fraction;plasma-enhanced chemical vapor deposition;hydrogenated amorphous silicon;hydrogenated microcrystalline silicon
日期:	2010-08-19
上传时间:	2010-12-08 13:39:39 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學
摘要:	研究奈晶矽與非晶矽之多層結構經熱退火處理後之性質及其在PIN太陽能電池吸收層中之應用 Thermal Annealing Treatments on Nanocrystalline and Amorphous Silicon Multilayers and its Applications on the Absorber of PIN Solar Cells
显示于类别:	[材料科學與工程研究所 ] 博碩士論文

文件中的档案:

档案	描述	大小	格式	浏览次数
index.html		0Kb	HTML	1914	检视/开启

在NCUIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

社群 sharing