震動對旋塗不穩定流的影響; Effect of Acoustic Wave on Fingering Instability during Spin Coating

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題名:	震動對旋塗不穩定流的影響;Effect of Acoustic Wave on Fingering Instability during Spin Coating
作者:	周復初
貢獻者:	機械工程系
關鍵詞:	不穩定手指狀;旋轉塗佈;半導體;機械工程類
日期:	2007-07-01
上傳時間:	2010-12-21 16:24:19 (UTC+8)
出版者:	行政院國家科學委員會
摘要:	隨著半導體工業的發展，晶圓尺寸也隨之不斷增大，傳統應用於小尺寸(6、8 寸)晶圓的旋轉塗佈方式已無法將大尺寸(12 寸)晶圓完全塗滿；因此，旋轉塗佈技術成為半導體製程上急需突破的瓶頸。半導體製程中之液體(光阻)旋轉塗佈的原理乃是藉由晶圓旋轉所產生之離心力，將晶圓上之液體均勻塗佈於晶圓表面。雖然離心力一方面可以讓液體可以均勻的佈滿晶圓表面，但是離心力的作用同時也會使得連續薄膜波前因為受到微小的擾動而產生不穩定手指狀現象，導致流體會先選擇經由突出的不穩定手指狀為優先路徑向外擴張，因而導致連續薄膜擴張速度減緩，甚至停滯不前，使得液體在晶圓表面的最大塗佈面積受到限制。本計畫針對旋轉塗佈過程中不穩定手指狀流現象提出新式塗佈方法－藉由震動抑制不穩定手指狀流現象的發生，其塗佈原理乃是由於使用超音波震盪器置於轉盤中央，會促進手指狀不穩定現象提早發生，而將多個電磁鐵震動器以環狀排列於轉盤四周，其環狀振動對於手指狀不穩定流之抑制較明顯；藉由上述實驗所得之初步實驗結果，提出本計劃企圖深入觀察、探討與分析在晶圓轉盤配置環型電磁鐵產生振動之振幅影響連續薄膜波前發展之現象，並藉由振動抑制不穩定手指狀流的發生，進而達到最大塗佈臨界半徑以及光阻減量之效果；此外，更進一步的針對不穩定手指狀流的發展加以控制，以達到最佳化的效果。研究期間：9508 ~ 9607
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[機械工程學系] 研究計畫

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