彩色濾光片新製程與設備之研發---總計畫; A Novel Process and Equitment for Color Filter Manufacturing

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Title:	彩色濾光片新製程與設備之研發---總計畫;A Novel Process and Equitment for Color Filter Manufacturing
Authors:	周復初;董必正;洪勵吾;潘敏俊
Contributors:	機械工程學系
Keywords:	狹縫式塗佈;條紋式塗佈;塗佈設備;機械工程類
Date:	2008-07-01
Issue Date:	2010-12-28 14:34:46 (UTC+8)
Publisher:	行政院國家科學委員會
Abstract:	目前LCD 製程主要是以狹縫式塗佈方式將感光染料塗佈於基板上再經由多重曝光、顯影、蝕刻的半導體技術進行彩色濾光片的製作。本計劃所使用的條紋式塗佈模式與以往使用在矽晶圓上的塗佈模式大不相同，其優點是可以減低使用曝光、顯影、蝕刻的製程步驟。由於採用條紋式塗佈而不同於以往所使用的狹縫式塗佈或是噴墨式塗佈，因此其彩色顏料附著於黑色矩陣微小格子中的流動不穩定之機制是非常值得探討的。在條紋式塗佈實驗中，我們得到多孔式條紋塗佈的可塗佈的視窗是狹小的，同時會有許多的缺陷，如空氣滲入、塗佈條紋不連續、塗佈條紋粗細不一致。因此，本計劃第一年規劃利用此新式的條紋式塗佈機台研究條紋塗佈過程中塗佈注入量、塗佈間距、狹縫間距、不同流體對完整覆膜的影響，並配合擠壓式塗佈頭外觀與內部的流道設計進而找出多孔塗佈頭的最佳注液模式，提高塗佈染料的均勻性與感光染料的減量，進而節省彩色濾光片製程中所需的製程成本。第二年針對多種造成塗佈不完全的流體現象進行不穩定的理論分析，找出影響不穩定塗佈的關鍵因素。第三年則利用不同黑色矩陣的圖案設計，進行新型的塗佈方法，而此種新型的塗佈方法則正準備申請專利。依據上述的研究方法與步驟，期盼可研究出新的製程關鍵因素作為產業界製程提升之參考。研究期間：9608 ~ 9707
Relation:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
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