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    題名: 新型具二、三光子吸收特性之光子材料研究--- 分子設計及其應用;+B5024Development of Novel Two- and Three-Photon Absorbing Photonic Materials: from Molecular Design toward Applications
    作者: 林子超
    貢獻者: 化學系
    關鍵詞: ;三光子吸收;光學功率抑制-穩定;頻率上轉換染料雷射;三維光記憶體材料;三維微結構製造;光動力治療法;非破壞性生物檢測/顯相技術;化學類
    日期: 2008-07-01
    上傳時間: 2010-12-28 15:27:55 (UTC+8)
    出版者: 行政院國家科學委員會
    摘要: 具有二、三光子吸收特性的材料因其在光子學及生醫光(電)子學上有許多不同應用的潛力﹐自90年代中期以來已引起學界相當程度的注意。目前其應用方向包括﹕光學功率抑制-穩定器?頻率上轉換染料雷射?三維光記憶體材料?三維微結構製造?光動力治療法以及非破壞性生物檢測/顯相技術等。由於一般已商業化的化合物皆無足夠的二、三光子吸收能力以敷各種應用﹐因此必須透過分子設計並藉由合成的方式來製備具有較高效能之二、三光子吸收度的化合物以滿足各項應用與開發相關技術的需求。為有效地達成此一目的﹐在基礎研究上必須致力於有系統性地合成具有不同官能基及結構的分子﹐並透過精密可靠的光學量測技術來探究這些分子的非線性吸收特性。基於上述的考量,我們研擬了相關的研究計畫並將其分為以下三項互有關聯之研究課題: [1] 設計及合成具有高效能之二、三光子吸收特性的材料。 [2] 分子結構與非線性吸收行為間關係之探討。 [3] 二、三光子吸收材料在光學功率抑制-穩定性能以及頻率上轉換受激發射行為的研究。本計畫預定發展兩類不同結構的分子:(i)新型含雜環及不同π-中心結構(π-center)之共軛條狀染料分子;(ii) 新型含多個非線性吸收中心之共軛多叉及樹枝型染料分子。結合本實驗室所發展出的新型材料以及合作單位先進的光學量測儀器和技術,從中所得之研究結果將有利於我們對分子結構與其非線性吸收行為間之關聯性有較深入的認識。同時,此項工作也有助於對材料的分子設計及應用有很大助益的分子資料庫之建立。在這一個為期三年的研究計畫中,本實驗室一方面將繼續與美國紐約州立大學水牛城分校的雷射、光子學暨生物光子學中心及澳洲國立大學的雷射物理中心保持密切且互動的國際合作以便針對這些材料的非線性吸收光學性質進行研究。另一方面,我們也將積極地尋找國內的合作對像和儘可能地籌組相關的雷射/光學設施以期未來能於我國獨立進行此類研究。 研究期間:9608 ~ 9707
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[化學學系] 研究計畫

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