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    題名: UV屏蔽之透明氧化鋅/矽樹酯奈米複合材料膜;Transparent ZnO/Silicone nanocomposite film for UV shielding
    作者: 陳思均;Chen,Sz-jiun
    貢獻者: 化學工程與材料工程研究所
    關鍵詞: 氧化鋅;表面改質;分散;透明;UV屏蔽;奈米複合材料;nanocomposite;UV shielding;transparent;dispersion;surface modification;Zinc oxide
    日期: 2012-07-27
    上傳時間: 2012-09-11 18:12:41 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學
    摘要: 我們製備了大小約為5 nm之氧化鋅奈米粒子,並以含壓克力基之矽烷3-(trimethoxysilyl)propylmethacrylate (MPS)進行表面改質。原先僅在乙二醇分散之氧化鋅,經過改質後可得到乾粉,並可再重新分散至許多溶劑。根據紅外光譜及核磁共振分析, MPS是先以tridental 和 monodental 的形式螯合於氧化鋅表面,然後多餘的MPS再接到以monodental 形式螯合的MPS分子外,形成雙層結構。由於粒子表面所接著之矽烷本身帶有壓克力基。若未完全縮合,則又留有氫氧基。所以改質後的氧化鋅不但可以分散至極性較強的溶劑如酒精,亦可分散到極性較弱的溶劑如四氫氟喃和甲基乙基酮。根據小角度X光散射分析,氧化鋅奈米粒子是球型,並在溶劑中會形成動態粒子簇。分散液的黏度隨著奈米粒子濃度的增加而呈現指數成長。其指數值 ~?4代表在高濃度下的粒子可能產生結構。分散液在濃度高達70 wt % 時仍具有高穿透度( T% > 85 )。雖然有流動性但是黏度甚高,是非牛頓流體。我們又製作了氧化鋅/矽膠的奈米複合材料,並塗佈於基材上嘗試作為UV光之阻隔膜。在氧化鋅固含量為65 wt % 而膜厚為5 ?m的情況下,可以將 350 nm以下之UV光完全阻隔,並且在可見光範圍仍呈現高的穿透度。最後我們將這些奈米複合材料進行QUV測試以驗證其耐久性。發現可以在照度高溼氣條件下支撐1400小時。換算成一般戶外條件約可支撐八年。ZnO nanoparticles (~5 nm) have been prepared and surface-modified with 3-(trimethoxysilyl)propylmethacrylate (MPS). The product is a dry powder which can be re-dispersed in many solvents. Based on the results of IR and NMR analysis, the directly anchored MPS exhibits both tridental and monodental structures, while a second layer of partially condensed silane are linked to the monodental ones. Due to the existence of both methacrylate group and residual hydroxyl, the ZnO@MPS powder can be dispersed in both polar and non-polar solvents. The dispersion remained transparent (T% > 85) and fluidic even at a loading as high as 70 wt %. The viscosity of the dispersion increases exponentially with the filler loading following the Quemada equation. An exponent ~ ?4 confirms that the fillers are un-aggregated even at such a high loading. ZnO/silicone nanocomposites are then prepared and coated on substrates as UV blocking film. A complete blockage of the UV radiation (<350 nm) has been achieved with a 5 ?m coating containing 65 wt% ZnO, while the transparency in the visible range (> 90 T% for >385 nm) could still be maintained. The durability of these nanocomposite films was further investigated by the standard QUV test.
    顯示於類別:[化學工程與材料工程研究所] 博碩士論文

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