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    Title: 二氧化矽/碳粉氮化反應動力學之研究;A Kinetic Study on the Nitridation of Silicon Dioxide/Carbon
    Authors: 張奉文
    Contributors: 中央大學化學工程與材料工程研究所
    Keywords: 化學工程類;二氧化矽;碳粉;氮化;動力學;氮化矽;Silicon dioxide;Carbon powder;Nitridation;Kinetics;Silicon nitride
    Date: 1993-09-01
    Issue Date: 2012-10-01 11:09:15 (UTC+8)
    Publisher: 行政院國家科學委員會
    Abstract: 氮化矽(Silicon Nitride, Si/sub 3/N/sub 4/)能廣泛地 應用於電子工業,精密工業用之研磨材及半導體 用的製造器具等.因此近幾年來成為世界各主要 先進國家競相研究及開發的對象.故氮化矽的製 造是非常值得國人努力及研究的目標.本研究擬以熱重分析法(TGA)並配合管狀反應系統, 進行純二氧化矽在碳粉存在下氮化生成氮化矽之 反應動力學探討.所欲探討的主要內容有:ぇ進行 二氧化矽/碳粉之氮化反應實驗,探討之主要影響 反應因素有......反應溫度,氣體流率,顆粒大小,造 粒壓力,C/SiO2莫耳數比,二氧化矽及碳之粉粒大小 等.え進行各項物性測試,如:比表面積,孔隙度,成 分測定及表面結構等.ぉ進行動力學分析,求得反 應級數,反應速率常數及活化能等.�建立動力學 模式及反應速率方程式. ; 研究期間 8108 ~ 8207
    Relation: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    Appears in Collections:[化學工程與材料工程研究所] 研究計畫

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