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    Title: 光學薄膜厚度均勻性之研究
    Authors: 莊凱評;Kie-Pin Chuang
    Contributors: 光電科學研究所
    Keywords: 薄膜;均勻性
    Date: 2000-06-22
    Issue Date: 2009-09-22 10:24:32 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 在大面積光學鍍膜中,厚度均勻性將變得相當重要,要維持監控點外位置之光學特性不會改變,在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分布,將是本論文討論的重點。 要如何控制膜厚均勻分布,就必須先對基板相對蒸發源的幾何位置擺設所造成的影響有所了解,進而探討蒸發源特性及成膜過程之物理特性。以作為設計改善膜厚均勻性時之參考,而達成改善厚度分布均勻性之目標。 然而,在整個研究過程中,對整個鍍膜系統之架構設計,對厚度分布均勻性及薄膜品質,造成何種程度的影響有所了解。同時,亦建立了研究時應有的基本態度與方法,以作為往後解決問題能力之基礎。
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 博碩士論文

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