光學薄膜厚度均勻性之研究

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題名:	光學薄膜厚度均勻性之研究
作者:	莊凱評;Kie-Pin Chuang
貢獻者:	光電科學研究所
關鍵詞:	薄膜;均勻性
日期:	2000-06-22
上傳時間:	2009-09-22 10:24:32 (UTC+8)
出版者:	國立中央大學圖書館
摘要:	在大面積光學鍍膜中，厚度均勻性將變得相當重要，要維持監控點外位置之光學特性不會改變，在製鍍過程中如何使基板上之膜厚均勻分布，將是本論文討論的重點。要如何控制膜厚均勻分布，就必須先對基板相對蒸發源的幾何位置擺設所造成的影響有所了解，進而探討蒸發源特性及成膜過程之物理特性。以作為設計改善膜厚均勻性時之參考，而達成改善厚度分布均勻性之目標。然而，在整個研究過程中，對整個鍍膜系統之架構設計，對厚度分布均勻性及薄膜品質，造成何種程度的影響有所了解。同時，亦建立了研究時應有的基本態度與方法，以作為往後解決問題能力之基礎。
顯示於類別:	[光電科學研究所] 博碩士論文

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