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    Title: 製程參數對薄膜應力影響之研究
    Authors: 黃文雄;Wen-Xiong Haung
    Contributors: 光電科學研究所
    Date: 2001-06-20
    Issue Date: 2009-09-22 10:25:03 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 製鍍薄膜後,薄膜內存在應力,直接影響到薄膜元件的良率、穩 定性,過大的薄膜應力對薄膜的附著性有不好的影響,過大的張應力 使得薄膜破裂:反之,使得薄膜起皺。所以有效的控制製程後薄膜的 剩餘應力是非常重要的。 本文旨在製鍍良好光學特性的理想薄膜,觀察製程參數對薄膜應 力的影響,期望能從中尋找應力較小的理想薄膜。再比較不同製程方 法製鍍的薄膜,薄膜應力的大小。 none
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 博碩士論文

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