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    Title: 雷射直寫灰階光罩之製作
    Authors: 張子斌;Tz-Bin Chang
    Contributors: 光電科學研究所
    Keywords: 灰階光罩;Gray Level Mask;LDW Glass
    Date: 2002-06-27
    Issue Date: 2009-09-22 10:26:19 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 繞射式光學元件為了要提昇效率,會將元件製作成多位階(Multiple Level)的形式。傳統的做法,會用多片不同的光罩,經過多次曝光、顯影與蝕刻的步驟,將元件製作出來。但這個過程過於繁複,容易造成製作上的困難與誤差。然而灰階光罩(Gray Level Mask)技術改進了製作方式。利用灰階光罩,只需一次的曝光、顯影與蝕刻步驟,即可做出高效率的繞射式光學元件。 本研究討論了雷射直寫玻片(Laser Direct Write Glass,LDW Glass),這是一種利用雷射光束寫入灰階圖案的玻璃片,用來製作灰階光罩。 於本論文中,用波長為442nm與532nm的雷射當作光源,以顯微鏡物鏡(NA=0.1、0.25、0.4)聚焦寫入玻片。量測了玻片之穿透率譜線以及不同顯微鏡物鏡之聚焦效果,最小光點大小約2µm。測試了雷射寫入光強、時間、速度與玻片穿透率之間的關係。製作出光柵之灰階光罩,並成功製作出表面起伏連續變化的閃耀式光柵。其中週期分別為46µm與15µm,品質因子(Quality Factor)為0.9與0.83。並以光學顯微鏡,電子式顯微鏡,原子力顯微鏡來觀測元件,加以印證灰階光罩技術的成果。
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 博碩士論文

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