方解石極性選擇繞射式光學元件設計與製作; Fabrication and Design of Polarization-sensitive Diffractive Optical Elements

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Title:	方解石極性選擇繞射式光學元件設計與製作;Fabrication and Design of Polarization-sensitive Diffractive Optical Elements
Authors:	田浩廷;Hao-Ting Tien
Contributors:	光電科學研究所
Keywords:	濕蝕刻;方解石;繞射式光學元件;calcite;wet etching;DOE's
Date:	2003-07-09
Issue Date:	2009-09-22 10:27:43 (UTC+8)
Publisher:	國立中央大學圖書館
Abstract:	論文摘要利用濕蝕刻的方法，製作出的閃耀式光柵（blazed grating），其blazed angle的大小依靠切割晶體的角度來決定，若是沿著光軸面切割，也能製作出V-Groove形狀的結構。本法的好處在於可以製做出各種角度的光柵，且能將尺度作至約在2μm左右，本文中將討論在哪種週期下的分光效果較好。因為晶體具雙折射性質在其上塗佈折射率匹配(index matching)的材質，製作出偏極化選擇的繞射式光學元件，使之對入射光的偏極化方向具有選擇性，只讓特定偏極方向的光波產生繞射。又或者可鍍上金屬，作為反射式的光柵，可以使用在光纖通訊系統中。本文中使用方解石晶體的非等向性濕蝕刻特性，製作閃耀式光柵（blazed grating），其週期在8?16μm，傾斜角度在10?15度。
Appears in Collections:	[Graduate Institute of Optics and Photonics] Electronic Thesis & Dissertation

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