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    Title: 矽基閃耀式光柵於Grismlens複合式分波多工器之研究;Si-based Blazed Grating for WDM System
    Authors: 余能枋;Neng-Fang Yu
    Contributors: 光電科學研究所
    Keywords: 閃耀式光柵;分波多工器;溼蝕刻;45度;groove;wet etching;Grismlens;WDM;blazed grating
    Date: 2004-07-02
    Issue Date: 2009-09-22 10:28:54 (UTC+8)
    Publisher: 國立中央大學圖書館
    Abstract: 本文利用乾蝕刻或溼蝕刻等半導體製程方式,在不同材料上製作出不同角度的閃耀式光柵,本篇中將介紹四種,一、氮化矽(SiNx)薄膜穿透式閃耀光柵,二、方解石反射式閃耀光柵,三、矽(100)傾斜10o反射式閃耀光柵,四、矽45o反射式光柵,上述的四種方式可藉由調製蝕刻速率,或是改變切割晶體的角度,利用材料和溼蝕刻溶液反應的特性,製作出各種角度的光柵;另外使用半導體製程方式將更易於大量的穩定製造。 此外,也將上述的矽45o 光柵,配合稜鏡作封裝,實際的應用至所設計的200GHz 4 channel Grismlens(稜鏡式透鏡光柵)複合式分波多工器系統中,以波長為1540?1570nm的測試光源,配合矽分光鏡進行整體系統的光學特性量測,量測系統的插入損失為-24.25dB,在1dB單一通道帶寬達0.14nm,其中矽分光鏡的損耗-7.29dB,非球面鏡耦合至輸出光纖的效率為-2.3dB;將檢討問題所在,確定未來發展方向。
    Appears in Collections:[光電科學研究所] 博碩士論文

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