English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 64745/64745 (100%)
造訪人次 : 20439955      線上人數 : 302
RC Version 7.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋


    請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/6851


    題名: 以高靈敏度之監控波長改善光學薄膜之製鍍成效;Improvement of the optical coating process by cutting layers with sensitive monitor wavelengths
    作者: 吳鍇;Kai Wu
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 光學監控;光學薄膜;監控靈敏度;optical coating;monitoring sensitivity;optical monitor
    日期: 2005-07-07
    上傳時間: 2009-09-22 10:30:14 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 對於一個製程昂貴的光學薄膜元件來說,更為精緻和精確的監控是必要的。本文提出了一個新的監控方法,藉由薄膜光學理論的數學的推演分析,找出不同膜堆的最佳監控波長,並計算出每層膜厚對中心波長的厚度補償。此方法兼具了高靈敏度的監控效果和保持中心波長不偏移的優點。模擬結果證明,以此法監控所製鍍而成的光學濾片,其成效明顯比用傳統的極值點監控法所製鍍者優良。 For a costly optical element production, more precise monitor method is necessary. A finer monitor method is proposed. Based on numerical analysis, the most sensitive monitor wavelength is clearly found out, and the thickness compensation for central wavelength is calculated. This method not only can cut layers precisely, but also keep the central wavelength in the right position. It is shown that the performance of optical thin film element monitored by this new method is much better than by the turning point method in coating process.
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

    文件中的檔案:

    檔案 大小格式瀏覽次數
    0KbUnknown607檢視/開啟


    在NCUIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

    社群 sharing

    ::: Copyright National Central University. | 國立中央大學圖書館版權所有 | 收藏本站 | 設為首頁 | 最佳瀏覽畫面: 1024*768 | 建站日期:8-24-2009 :::
    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋  - 隱私權政策聲明