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    題名: 矽基平面式梯度折射率微透鏡於單模光纖收發器之研究
    作者: 賴慶隆;Ching-Lung Lai
    貢獻者: 光電科學研究所
    關鍵詞: 平面式梯度折射率微透鏡;電漿輔助化學氣相沈積
    日期: 2005-07-06
    上傳時間: 2009-09-22 10:30:55 (UTC+8)
    出版者: 國立中央大學圖書館
    摘要: 本論文提出了ㄧ種結合了微光學平台(micro optical bench,MOB)技術的新型光耦合器,稱之為平面式梯度折射率微透鏡(planar gradient-index micro lens)。我們利用現有半導體製程技術,製作矽基平面式微光學元件,應用於雷射二極體-光纖耦合模組,使其具有可批次製造、高對位精準度與高耦合效率之優點。 在設計上,雷射二極體到單模光纖的耦合效率達44.23%。而在元件的製程上,藉由改變電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)的N2O/SiH4氣體流量比,成長具有梯度折射率變化的氮氧化矽膜,並利用先進氧化層蝕刻機(AOE)針對氮氧化矽材料進行深乾蝕刻。最後,我們量得雷射二極體到單模光纖耦合效率為5.1%。
    顯示於類別:[光電科學研究所] 博碩士論文

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