以側向調製雷射光實現高階諧波之準相位匹配;Quasi-Phase Matching of High Harmonic Generation by Utilizing a Modulating Transverse Laser Beam

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題名:	以側向調製雷射光實現高階諧波之準相位匹配;Quasi-Phase Matching of High Harmonic Generation by Utilizing a Modulating Transverse Laser Beam
作者:	劉耀澧
貢獻者:	國立中央大學物理學系
關鍵詞:	高階諧波;極紫外光;軟X光;準相位匹配;強場雷射與超快光學;High-harmonic generation (HHG);Extreme Ultraviolet (EUV);Soft X-ray;quasi-phase-matching (QPM);High-Field Physics and ultrafast optics
日期:	2021-12-21
上傳時間:	2021-12-23 14:06:54 (UTC+8)
出版者:	科技部
摘要:	ASML是全球唯一可量產EUV微影設備之大廠，目前國際半導體大廠全都要靠該設備才能在奈米製程中導入EUV微影技術。我們的研究能大幅提昇高階諧波轉換效率以產生高強度短脈衝EUV與Soft X-ray。掌握EUV技術，台灣將不再依靠ASML，我們能夠自主研發與量產。於科技、科學、社會與經濟發展皆有益處。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[物理學系] 研究計畫

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