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    題名: 極紫外光高反射鏡光學鍍膜技術(II);High Reflectance Mirror Coating Technology for Extreme Ultraviolet Light(Ii)
    作者: 國立中央大學光電科學與工程學系
    貢獻者: 國立中央大學光電科學與工程學系
    關鍵詞: 極紫外光;微影蝕刻;反射鏡;雙離子束濺鍍系統;覆蓋層;阻隔層;Extreme ultraviolet light;photolithography;mirror;dual ion beam sputtering system;Capping layer;barrier layer
    日期: 2022-07-26
    上傳時間: 2022-07-27 10:45:06 (UTC+8)
    出版者: 科技部
    摘要: 藉由本計畫的投入創造除了學術與產業上的進步外，並可帶動國內相關研發機構及產業界對於EUV極紫外光多層膜技術在光學薄膜的應用，提升國內整體在半導體光學元件上光學薄膜研究的水準，對於參與此計畫的研究生而言，可以經由計畫之執行，學習光學薄膜原理與製程、雙離子束濺鍍系統(Dual Ion Beam Sputtering,DIBS)系統操作的原理與製程、材料分析與數值分析及光學及表面微觀量測等方面的基礎與實作訓練，未來不論繼續深造或進入產業界得以快速接軌。
    關聯: 財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
    顯示於類別:[光電科學與工程學系] 研究計畫

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