半導體設備之抗電漿腐蝕薄膜開發;Development of Anti-Plasma Corrosion Film for Semiconductor Equipment

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題名:	半導體設備之抗電漿腐蝕薄膜開發;Development of Anti-Plasma Corrosion Film for Semiconductor Equipment
作者:	郭倩丞
貢獻者:	國立中央大學光電科學與工程學系
關鍵詞:	半導體蝕刻;抗電漿腐蝕薄膜;氧化釔;電子槍蒸鍍;Semiconductor etching;anti-plasma corrosion film;yttrium oxide;electron gun evaporation
日期:	2022-07-26
上傳時間:	2022-07-27 10:45:18 (UTC+8)
出版者:	科技部
摘要:	本計畫完成後，預計將取得半導體設備之抗電漿腐蝕薄膜製作的能力並測試新材料．期望在學術研究方面可以藉由本計畫的投入解決半導體產業在高功率蝕刻環境下的問題之外，也期許本計畫之執行可以帶動國內相關研發機構及產業界對於抗電漿腐蝕薄膜的開發，且將有能力自主完成抗電漿腐蝕薄膜的製備，其貢獻如下： (1) 建立抗電漿腐蝕薄膜的製程與分析能力； (2) 建立微波電漿蝕刻系統的設計能力 (3) 建立釔基氧化材料抗電漿的理論分析與實作經驗； (4) 提昇國內抗電漿腐蝕薄膜的研究； (5) 擴大國內在抗電漿腐蝕薄膜技術發展自主性。
關聯:	財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:	[光電科學與工程學系] 研究計畫

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