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Item 987654321/90358
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http://ir.lib.ncu.edu.tw/handle/987654321/90358
題名:
CAAC濺鍍磊晶技術與其在軟性薄膜元件之應用
;
Caac Sputtering Epi Technology for the Application of the Flexible Thin-Film Devices
作者:
陳昇暉
貢獻者:
國立中央大學光電科學與工程學系
關鍵詞:
濺鍍磊晶技術
;
軟性薄膜元件
;
Sputtering Epi Technology
;
Flexible Thin-film Device
日期:
2023-03-08
上傳時間:
2023-03-08 15:15:02 (UTC+8)
出版者:
科技部
摘要:
本計畫之製程技術主要包含的低溫軟性基板技術與CAAC濺鍍磊晶技術,整合而成,是一項新型鍍膜技術,為下世代顯示技術中不可或缺之關鍵技術,HiPIMS是PVD 的理想電漿源,包括高均勻性,高緻密性,自主開發雙極性脈衝磁控濺鍍技術重要之濺鍍儀器設計方式、操作參數、及對薄膜性質之量測驗證方式,參與計畫之人員將獲得摻雜型結晶IGZO透明金屬氧化物薄膜技術,包含雙極性磁控濺鍍槍的設計、IGZO薄膜材料特性之量測,本計畫執行可以獲得雙極性離子鍍膜之濺鍍技術:本計劃自主開發雙極性脈衝磁控濺鍍系統,以IGZO低溫軟性基板技術與CAAC濺鍍磊晶技術為方向,並從建立製程系統與薄膜製程技術。
關聯:
財團法人國家實驗研究院科技政策研究與資訊中心
顯示於類別:
[光電科學與工程學系] 研究計畫
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